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新一轮科技革命和产业变革加速演进，AI加速机器人智慧化、量子科技多点突破、脑机接口迈入临床应用新阶段，前沿创新场景不断涌现。2025 年，我国人工智能核心产业规模突破1.2 万亿元，企业数量超6200 家。半导体作为数字经济与先进制造的核心算力基石，已然成为全球科技竞争与产业安全的关键战略高地。
2026 年作为 “十五五” 开局之年，全国会议明确提出加快高水平科技自立自强，发挥新型举国体制优势，全链条推动集成电路等关键核心技术攻关，打造新兴支柱产业，推动科技创新与产业创新深度融合，着力发展新质生产力。
在此背景下，中国半导体产业迎来政策加持、场景开放、资金加码的战略机遇期，正朝着自主可控、生态*的方向加速迈进。
作为深耕过滤技术的创新型企业，大立过滤将重磅亮相SEMICON China 2026，全面展示覆盖半导体核心工艺制程和使用点位的过滤解决方案：光刻（Litho）、湿法刻蚀与清洗（WEC）、化学机械研磨（CMP）和脱气与溶气等。
我们将于3 月 25 日–27 日，在上海新国际博览中心 N2 馆 2738 展位恭候您的莅临，与行业同仁共探先进过滤技术，助力客户提升产品良率，为半导体制造与创新保驾护航。
扫描上方二维码，注册入展
大立过滤在N2-2738等候您莅临参观与指导
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